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デジタル複写浮世絵の展示会
アート 文化 浮世絵
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高精細デジタル技術が創る浮世絵秀作展が在サンフランシスコ日本国総領事館で4月7日から4月21日まで開催されます。同展示会では，浮世絵の美が細部にいたるまで鮮やかに再現することが可能な最先端のデジタル画像処理で作成された約２０枚の浮世絵複写を展示します。詳しくは、ウェブサイトをご覧下さい。
http://www.sf.us.emb-japan.go.jp/archives/PR/2016/pr_16_0314.htm (日本語）
http://www.sf.us.emb-japan.go.jp/archives/PR_e/2016/pr_16_0314.htmｍ （English)
http://www.sf.us.emb-japan.go.jp/archives/PR/2016/pr_16_0314.htm (日本語）
http://www.sf.us.emb-japan.go.jp/archives/PR_e/2016/pr_16_0314.htmｍ （English)
- カテゴリー
- アート
- 開催日
- 2016年4月6日, 21日
- 時間
- 9時〜4時半
- 参加費
- 無料
- 開催場所
- 在サンフランシスコ日本国総領事館
- 投稿者
- Emiko Sung
- ウェブサイト
- http://www.sf.us.emb-japan.go.jp/archives/PR/2016/pr_16_0314.htm
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